濕製程化學品過濾濾心
濕製程化學品過濾濾心
KANER DUR 系列是為在高腐蝕性溶劑及化學品下具有高流動性,清潔度和污染控制而開發的。改良的 PTFE 膜使半導體設備能夠滿足其關鍵的化學品過濾要求,確保品質並可提高濾體流速。此系列擁有出色的化學相容性,確保過濾效率並延長使用壽命。適用於 NMP、HCL、NH4OH、H2SO4、H3PO4、NHO3…等化學品及溶劑。
特性優點:
- 出色的過濾效率和高流速
- 優異的化學相容性
- 全氟濾芯適用於高度腐蝕性和高溫化學品
- 100%完整性測試
- 不須IPA預濕
典型應用:
- 半導體FEOL與BEOL製程
- 濕式清洗, SC1、SC2、SPM…
- 濕蝕刻 (Wet Etching)
- TMAH
- HCL、NH4OH、H2SO4、H3PO4、NHO3、H2O2