濕製程化學品過濾器

濕製程化學品過濾器


KANER DUR 系列是為在高腐蝕性溶劑及化學品下具有高流動性,清潔度和污染控制而開發的。改良的 PTFE 膜使半導體設備能夠滿足其關鍵的化學品過濾要求,確保品質並可提高濾體流速。此系列擁有出色的化學相容性,確保過濾效率並延長使用壽命。適用於 NMP、HCL、NH4OH、H2SO4、H3PO4、NHO3…等化學品及溶劑。

特性優點:

  • 出色的過濾效率和高流速
  • 優異的化學相容性
  • 全氟濾芯適用於高度腐蝕性和高溫化學品
  • 100%完整性測試
  • 不須IPA預濕

典型應用:

  • 半導體FEOL與BEOL製程
  • 濕式清洗, SC1、SC2、SPM…
  • 濕蝕刻 (Wet Etching)
  • TMAH
  • HCL、NH4OH、H2SO4、H3PO4、NHO3、H2O2